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日經新聞報導，Canon將斥資超過500億日圓（3.45億美元），在日本東部建造一座半導體設備新廠，是21年來首座製作微影設備的新廠，跟進美國、南韓及台灣晶片製造商砸重金投資的腳步。
報導指出，Canon這項投資將包括建築成本和製造設備的安裝費，公司的目標是將目前的產能增加一倍。這座新廠將坐落於栃木縣一座舊工廠的空地區域，占地約70,000平方公尺，預計明年動工，2025年春季正式啟用。
Canon計劃提高微影設備的產能，這是半導體蝕刻電路的關鍵流程一環，該公司還考慮生產能以低成本打造先進精細電路的下一代系統。微影設備專門生產用於汽車控制等系統的晶片，Canon目前已在日本兩座工廠生產這類設備。
該公司預估，今年半導體微影設備的銷量有望增加29％至180台，較10年前猛增四倍。新廠將有助滿足不斷增長的需求。以數量計算，Canon供應全球30％的微影設備，市占僅次於艾司摩爾（ASML）的60％。
根據世界半導體貿易統計組織（WSTS），去年全球半導體市場規模首度突破5,000億美元。預計2030年市場規模將較2021年翻倍，突破1兆美元。
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