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東京威力科創投資1.7億美元 蓋半導體設備新廠

東京威力科創(TEL)投資1.67億美元蓋新的晶片設備製造廠。  路透
東京威力科創(TEL)投資1.67億美元蓋新的晶片設備製造廠。 路透

本文共568字

經濟日報 編譯黃淑玲/綜合外電

東京威力科創(Tokyo Electron)周一(20日)宣布,將投資大約220億日圓(1.67億美元),在日本東北岩手縣奧州市設立晶片設備製造廠,預期半導體產業將再有新需求。這座新廠將會是東京威力科創在奧州市的第七座工廠,至於2020年開始營運的第六廠現在已產能全滿。

日經亞洲報導,東京威力科創新廠預定2025年秋季完工,專攻製造晶圓沈積(wafer deposition)設備。投產後,可望將集團製造晶片設備的產能提高50%。如果輔以生產效能改良,產能最高可能發揮到原始規劃的兩倍。

半導體業景氣雖然目前正值修正期,但高階半導體走向更多層結構已是趨勢,因而製造過程中的沈積製程一定需要更多步驟。負責工廠業務的子公司Tokyo Electron Technology Solutions社長佐佐木貞夫說:「市場在持續成長,我們預期2024會計年度需求還會更高。」他說,新廠廠區預留了空間,未來也可能討論增加生產線。

日經指出,東京威力科創看好半導體市場的長期發展,已積極超前部署,增加相關資本支出。集團在宮城縣、山梨縣、熊本縣,也都有重要生產據點。

除了擴充產能,東京威力科創也致力研發製造先進晶片的新一代生產設備。該公司計劃支出至少1兆日圓(76億美元),投入直到2027年3月的五年研發計畫。這與前一個五年研發計畫相比,經費跳增70%。

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