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韓國經濟日報報導，台積電（2330）（2330）已決定6月起把輝達（Nvidia）最近發表的微影技術軟體資料庫「cuLitho」，運用於晶圓代工製程，以搶得2奈米超先進晶片製呈的先機，甩開和三星電子之間的差距。
報導引述產業消息人士29日的說法指出，台積電和輝達的加強合作，正值台積電力拚在2025年前生產2奈米晶片，三星電子的目標是在同一年商用化2奈米製程技術。英特爾本月稍早已說，以開發出生產2奈米和1.8奈米的技術，比原定規畫提早一年。
目前3奈米是業界最先進的半導體技術，台積電和三星電子都競相改善良率。輝達指出，cuLitho軟體系統能加速製造與半導體的運算式微影過程，這項軟體是以繪圖晶片為基礎，相較於傳統以中央處理為基礎的技術，能減少耗電量85%。
輝達在首爾的一名主管說，cuLitho系統能讓2奈米晶片代工廠縮短微影時間，同時提高製程的精確度。
韓國經濟日報指出，到目前為止，三星電子在生產超小型晶片技術的進度領先台積電，去年是全球首家量產3奈米晶片的記憶體晶片業者，接著大幅提高良率，並且計劃用自家的環繞式閘極（GAA）電晶體架構量產2奈米晶片。
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