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日本允諾13億美元補貼給美光 支持在日生產新一代晶片

美光已表示,計劃在日本投資5,000億日圓,以最先進製程1-gamma 技術生產新一代晶片。美聯社
美光已表示,計劃在日本投資5,000億日圓,以最先進製程1-gamma 技術生產新一代晶片。美聯社

本文共534字

經濟日報 編譯劉忠勇/綜合外電

日本政府已批准多達1,920億日圓(13億美元)補貼,支持美光科技(Micron)在廣島廠生產新一代晶片,也進一步強化日本本土的半導體製造基地。

日本經濟產業大臣西村康稔周二表示,這筆經費將協助美光引進艾司摩爾(ASML)生產先進晶片的極紫外微影(EUV)設備,這些晶片將是驅動生成式人工智慧(AI)、資料中心和自駕技術的關鍵。西村表示 ,這項補貼涵蓋美光在日本近四成的投資計畫。

西村在例行記者會上說:「目前市況不佳,但在這種候投資是不可少的。」他說,目的是為確保日本未來經濟安全所需先進晶片供應無虞。

在中國大陸市場面臨不確定性之際,這項補貼對美光來說堪稱一大斬獲。美國參議員正安排下周組團訪問北京,希望和習近平碰面,據傳會提到美光在大陸遭到調查事宜。

西村表示,日本政府已備妥最高1,670億日圓來支應美光的生產成本,另撥款最高250億日圓來支應研發成本。美光已表示,計劃在日本投資5,000億日圓,以最先進製程1-gamma 技術生產新一代晶片。

美光在2013年併購日本DRAM大廠爾必達(Elpida)事業,在日本擁有超過4,000名工程師和技術人員。

西村說:「如果有好的工作,年輕人就會留在家鄉,為區域經濟營造積極的漣漪效應。我們希望這也有助於培養晶片相關人才。」

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