本文共316字
日刊工業新聞未說明消息來源報導,美光科技計劃在日本廣島縣興建生產DRAM晶片的新廠,最快2027年底投入營運。
報導說,總投資額預估在6,000億-8,000億日圓(51億美元)。新廠將於2026年初動工,並安裝極紫外微影(EUV)設備。
日本政府已批准多達1,920億日圓(13億美元)補貼,支持美光在廣島廠生產新一代晶片。經濟產業省去年表示,這筆經費將協助美光引進艾司摩爾(ASML)生產EUV設備,這些晶片將是驅動生成式AI、資料中心和自駕技術的關鍵。
美光原本即有2024年讓新廠投入營運的計畫,但顯然因市況不佳而有所調整。美光2013年併購日本DRAM大廠爾必達(Elpida)事業,在日本擁有超過4,000名工程師和技術人員。
※ 歡迎用「轉貼」或「分享」的方式轉傳文章連結;未經授權,請勿複製轉貼文章內容
留言