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不讓台積專美 SK海力士也考慮採用ASML的High NA EUV設備

本文共250字

經濟日報 編譯易起宇/綜合外電

南韓晶片大廠SK海力士14日表示,正考慮使用艾司摩爾(ASML)造價4億美元的高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影系統設備,來生產下一代記憶體晶片。

路透報導,SK海力士技術長Seon-yong Cha 14日在荷蘭舉行的艾司摩爾投資人日上透過預錄影片表示,正考慮引進這台全球最昂貴的晶片製造設備。

雖然這台設備造價不斐,但據傳台積電和英特爾等公司都已下單。外媒本月稍早引述消息人士報導,台積電訂購的High-NA EUV設備首批機件,將在年底前運抵台灣。英特爾則在幾個月前就已收到這台設備。

SK海力士技術長表示,正考慮使用艾司摩爾(ASML)最新的High-NA EUV...
SK海力士技術長表示,正考慮使用艾司摩爾(ASML)最新的High-NA EUV微影系統設備,來生產下一代記憶體晶片。 路透

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