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台積電（2330）先前一再表示，半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）的高數值孔徑極紫外光機台（High-NA EUV），太過昂貴，2026年前使用沒有太大的經濟效益，但近來台積總裁魏哲家密訪ASML總部，讓外界不禁猜測，台積是否改變心意。
綜合科技媒體wccftech和韓媒BusinessKorea報導，消息人士指出，魏哲家缺席23日登場的台積電2024年技術論壇台灣場，於26日造訪了ASML荷蘭總部，以及工業雷射公司創浦（TRUMPF）的德國總部。
金融分析師奈斯泰德（Dan Nystedt） 28日在X平台發文寫道，台積似乎加入追逐下一世代EUV設備之戰，即High-NA EUV機台，理由是魏哲家訪問ASML與雷射供應商創浦，而非參與在台灣舉行的技術論壇。據傳魏哲家的到訪，顯示台積想買High-NA EUV，此種設備對2奈米以下製程極為關鍵。ASML去年12月已出貨首台High-NA EUV給英特爾。
相關人士分析，台積管理層似乎決定拜訪ASML，以確保在全球半導體的主導地位。台積原本打算在2026年下半量產1.6奈米製程後，再導入High-NA EUV。
台積的競爭對手英特爾和三星電子，都已有所行動。英特爾想藉著High-NA EUV，達到難以超越的領先優勢。最先出貨的幾台High-NA EUV，都送往英特爾的晶圓代工部門。英特爾想先在1.8奈米試用此種設備，之後正式導入於1.4奈米製程。
三星集團會長李在鎔則在4月親訪ASML關鍵伙伴蔡司（Carl Zeiss）的德國總部，拜會ASML執行長傅凱與蔡司執行長蘭普雷希特，以強化三方的半導體聯盟。EUV不只用於2奈米晶圓代工，也用於生產最先進的DRAM，三星為此重押High-NA EUV技術。
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