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美埃集團（MayAir Group）日前在SEMICON TAIWAN展會推出風機過濾單元（FFU）、配套高效濾網，化學濾網，廣泛運用於半導體、電子、平板顯示、太陽能等各行業不同等級淨化需求，為奈米級晶片工藝製程超淨環境提供高超技術及專業的空氣淨化解決方案。
美埃為某美國知名半導體企業（PELICAN, FALCON, KM1等）提供無塵室半導體廠房空氣淨化解決方案，已成為其在FFU以及HEPA/UPLA 高效濾網等空氣潔淨設備供應商。
該集團在化學濾網領先同業，並在展會上分享化學濾網應用與可持續性發展概念。如晶片製造隨著線寬的降低，工藝更複雜，工序更繁瑣，使用的化學品更多。很多關鍵的製程如光刻需在特定的潔淨環境下進行，需額外注意難溶化合物RC的管控，以確保光刻機的鏡頭處於良好的使用環境。和分享一個晶圓案例，協助安裝後經過檢測機構採樣，成功將RC化合物濃度控制在0.1ppb下。經協力廠商測試機構對指定區域的RC化合物持續檢測，美埃的RC化學濾網產品使用週期超出業主預計值的三倍。
美埃利用改良後的CT碳筒幫助某DRAM廠在MAU化學過濾段降低24%壓降，從而減少運營成本，酸濃度控制小於1ppb。CT碳筒內附紗網，防漏碳防粉塵，發塵量符合ISO5。美埃CT碳筒裝卸簡易單人即可操作，無需安裝工具。床層增至28mm，加大濾料的填充量，延長CT碳筒壽命。
美埃利用空氣增值解決方案助推半導體可持續發展，並在產品的研發及創新上持續努力，關注化學濾網的回收及再生，和利用濾網保護環境，降低對人類的影響。
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