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均豪3D NIR掃瞄機 提升奈米製程良率

本文共569字

經濟日報 翁永全

在面板及半導體不同年代,均豪精密(5443)均恭逢其盛,並引領風騷。NVIDIA崛起,再次掀起半導體產業AI應用新一波浪潮,均豪成功轉換跑道,半導體營收成長至五成,未來持續有突破性成長。

均豪延續先前自有核心技術,推出多種半導體製程設備。先進封裝製程研磨設備應用於PLP大面積材料或高階載板平整化,適用多樣複合研磨材料,附加線上自動量測、自動補償、智慧診斷等功能。高精度平面研磨及高精度檢查整合方案,結合研磨設備及AOI及Metrology Solution,擁有自磨、自檢、自修正功能,為AI自適應智慧化設備,為解決生產問題的利器。因應半導體對資安的嚴格要求,均豪也推出Wafer AOI設備,為全球首台獲得SEMI E187認證。

均豪的3D NIR穿透式斷層掃瞄機,可使用在TGV 雷射後(穿孔前)及金屬化前後及蝕刻後製程,其非破壞性重建樣品表面下的三維結構,同時具備深度與平面量測功能,可用於檢測樣品表面與內部缺陷結構,結合客製化自動缺陷辨識軟體,提升檢測能力與速度。

這台晶圓級深層掃瞄機,結合轉投資公司芯聖科技的核心技術,為半導體檢測的創新性突破,以銳利「鷹眼」讓奈米製程的極微失誤無所遁形,並具有強大的即時除錯功能,成為半導體尖端製程的護體大將,可為晶圓及封測大廠帶來提升良率及獲利的效益,讓均豪的服務層次更深廣,產業地位大躍升。

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